工業(yè)純水設(shè)備—EDI系統(tǒng)
工業(yè)純水設(shè)備的EDI系統(tǒng)
工業(yè)純水設(shè)備是一種用于生產(chǎn)工業(yè)所需純水的純水制取裝置,工業(yè)純水設(shè)備可廣泛應(yīng)用于食品工業(yè)用水、半導(dǎo)體工業(yè)、精細(xì)化工、光學(xué)工業(yè)用水、電鍍用水、醫(yī)藥用水、醫(yī)療器械用水等領(lǐng)域。設(shè)備根據(jù)用水水質(zhì)要求分為五大類,下面了解一下關(guān)于:工業(yè)純水設(shè)備的EDI系統(tǒng)
工業(yè)純水設(shè)備是一種用于生產(chǎn)工業(yè)所需純水的純水制取裝置,工業(yè)純水設(shè)備可廣泛應(yīng)用于食品工業(yè)用水、半導(dǎo)體工業(yè)、精細(xì)化工、光學(xué)工業(yè)用水、電鍍用水、醫(yī)藥用水、醫(yī)療器械用水等領(lǐng)域。設(shè)備根據(jù)用水水質(zhì)要求分為五大類,下面了解一下關(guān)于:工業(yè)純水設(shè)備的EDI系統(tǒng)。
(1)EDI系統(tǒng)工作原理:
1)?源水中含有鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽、二氧化硅等溶解鹽。這些鹽由帶負(fù)電的離子(anion)和帶正電的離子(cation)組成。99%以上的離子都可以通過(guò)恰當(dāng)?shù)姆礉B透(RO)處理得以去除。城市的水源還含有微量金屬、溶解氣體(如?CO2)和其它微弱電離的化合物,這些雜質(zhì)在工業(yè)應(yīng)用過(guò)程當(dāng)中必須去除(如硼和硅)。
2)?RO滲透水(EDI進(jìn)水)的電導(dǎo)率一般在?4-10μS/cm,即電阻率在?50-250kΩ.cm之間。而根據(jù)藥典規(guī)定的純化水電導(dǎo)率<1μs/cm,即電阻率>1MΩ·CM。
3) ?EDI 的工作過(guò)程通過(guò)交換羥基離子或氫氧根離子去除不想要的離子,然后將這些離子輸送到廢水流中。
(2)EDI 的運(yùn)行控制
1)EDI裝置的投運(yùn)或備用主要是通過(guò)控制?EDI供水泵及直流電源的起動(dòng)或停止來(lái)實(shí)現(xiàn),EDI的整個(gè)裝置的啟停是通過(guò)二級(jí)純水箱和后段水箱的液位變化來(lái)決定的。在本系統(tǒng)?EDI后純水箱的液位通過(guò)三點(diǎn)來(lái)控制?EDI裝置的運(yùn)行。
2) ??當(dāng)?EDI產(chǎn)水箱的水位繼續(xù)升至高液位時(shí),EDI將停止。相反,當(dāng)?EDI產(chǎn)水箱的液位由高至低反過(guò)程時(shí),EDI的投運(yùn)順序同時(shí)以相反的順序進(jìn)行。
3)?EDI裝置采用程序控制,在就地和控制室內(nèi)實(shí)現(xiàn)。EDI裝置的運(yùn)行根據(jù)反滲透水箱和后面的純水箱的水位,自動(dòng)控制啟、停。
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